Saját DUV-gépekkel válaszol Kína a korlátozásokra

A Shanghai Yuliangsheng Technology 2026-ban kezdi meg a hazai gyártású DUV-litográfiai berendezések szállítását a kínai félvezetőgyártóknak.

A Shanghai Yuliangsheng Technology belépett a DUV-litográfiai piacra, és 28 nanométeres immerziós gépek gyártását tervezi. A vállalat 2026-ban 5, 2027-ben pedig 20 egység előállítását irányozta elő, amelyek 193 nanométeres hullámhosszt használnak. Az alkatrészek többsége kínai, de kritikus elemek Japánból érkeznek. Az első gépeket a SMIC, a Hua Hong és a CXMT kapja meg, utóbbi 2026. július 27-én lépett tőzsdére, ahol részvényei közel 500 százalékot drágultak. A CXMT jelenleg havi 200 ezer ostyát gyárt, de 2026 végére 300 ezerre, új sanghaji és hefeji üzemeivel pedig 600 ezerre növelné kapacitását. A cég G5 technológiával 1a DRAM-ot gyárt, és 3D DRAM-ot fejleszt. A fejlesztések hátterében az amerikai MATCH Act áll, amely korlátozná a nyugati DUV-technológiákhoz való hozzáférést.