Samsung: 2029-ben indulhat az 1,4 nanométeres gyártás
A Samsung 2029-re halaszthatja az SF1.4 technológia bevezetését, amelyhez High-NA-EUV rendszereket használ majd a kritikus rétegekhez.
Koreai sajtóértesülések szerint a Samsung 1,4 nanométeres gyártási folyamata, az SF1.4, az eredetileg tervezett 2027 helyett 2029-ben indulhat el. A vállalat a kritikus rétegek levilágításához High-NA-EUV technológiát alkalmaz majd, amelyhez jelenleg három tesztelési célú rendszerrel rendelkezik. A Samsung korábban, 2022-ben elsőként kezdte meg a 3 nanométeres chipek gyártását Gate all Around technológiával, a 2 nanométeres eljárásuk pedig az SF2 nevet viseli. A piaci versenyben a TSMC A14 folyamata szintén 2029 körül várható, ám a tajvani cég várhatóan csak 2030-ban vagy 2031-ben veti be a High-NA-EUV-t. Eközben az Intel ütemterve szerint a 14A jelzésű folyamat már 2027 végén vagy 2028 elején megkezdődhet.