Kínai DUV-litográfiai gép készült az ASML ellenében

A kínai állami Shanghai Aishengna bemutatta saját DUV-szkennerét, miközben Peking 2030-ra az EUV-technológia hazai gyártását is tervezi.

A Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, amely szoros kapcsolatban áll a hazai litográfiai eszközöket fejlesztő SMEE-vel és a Shanghai Electric Grouppal, elkészítette saját immerziós DUV-szkennerét. Ez a berendezés vízalapú technológiával nyomtat áramköröket, és jellemzően a 7 nanométeres vagy annál nagyobb csíkszélességű chipek gyártására alkalmas. Bár a nyugati szankciók az EUV-rendszereket érintik, a DUV-gépek továbbra is elérhetőek, ám Kína a technológiai önállóságra törekszik. A Huawei bevonásával zajló EUV-fejlesztések a várakozások szerint 2030-ra érhetnek be. A holland ASML számára Kína kulcsfontosságú piac maradt: 2026 első felében 2,6 milliárd eurós bevétellel a harmadik legnagyobb szegmensük volt Tajvan és Dél-Korea után. A régebbi gépekkel végzett többmintás eljárás ugyan lehetővé teszi a fejlettebb chipek gyártását, de növeli a selejtarányt és a költségeket, miközben csökkenti a hatékonyságot.